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        K-Matsumi DMA-20:開啟2 nm 納米顆粒一秒“閃測”新紀元

        發布時間: 2025-12-29  點擊次數: 37次
        在半導體、顯示、醫藥、大氣監測等制造與科研場景里,20 nm 以下的超細納米顆粒(Ultrafine Particles, UFP)既是關鍵性能“助推器",也是良率“隱形殺手"。傳統光學粒子計數器止步于50–100 nm,而掃描/透射電鏡雖能分辨原子卻難以在線統計。日本 K-Matsumi 公司推出的 DMA-20 差分電遷移分析儀,以“2 nm 粒徑、1 秒檢出"的指標,將“單 nm 級"與“實時級"同時寫進工業在線檢測菜單,為納米材料研發、潔凈室監控與過程控制打開了一扇新窗口。

        一、技術原理:差分電遷移 + 超靈敏靜電計

        DMA(Differential Mobility Analyzer)的核心是讓帶電粒子在層流電場中按電遷移率大小“排隊"。DMA-20 在經典圓柱形 DMA 基礎上做了三項革新:
        1. 層流場整形技術
          采用航空級鋁合金腔體,經金剛石切削得到鏡面級(Ra ≤ 30 nm)同軸度,入口加裝多孔整流板,使雷諾數 Re < 500,確保 2 nm 粒子也不受湍流擾動。
        2. 高壓精度控制
          0–20 kV 高壓模塊分辨率 0.01 V,電壓噪聲 < 0.3 mV,對應電遷移率分辨率 ΔZp/Zp ≤ 1.2 %,從而把 2 nm 與 2.1 nm 的峰分離度拉到 1 σ 以上。
        3. 飛安級靜電計陣列
          放棄傳統法拉第杯 + 皮安計方案,改用 8 通道并聯式“飛安靜電計"(fA-ammeter),單通道噪聲 0.2 fA(rms, 1 Hz),等效粒徑檢測下由 5 nm 直接下探到 2 nm,且保持 1 s 時間分辨率。

        二、系統架構:三合一在線平臺

        DMA-20 將“采樣—中和—測量—反演"集成在 19 英寸 4U 機箱內:
        • 軟 X 射線雙極中和器
          平均電荷態 |q| ≤ 1.05 e,避免高濃度雙電荷峰拖尾,提高分布反演準確度。
        • 逆氣流鞘氣循環
          閉環干式泵 + 分子篩凈化,鞘氣潔凈度 ISO 1 級,減少 2 nm 粒子在壁面損失(傳輸效率 ≥ 65 %)。
        • 高速反演算法
          基于 Tikhonov 非負正則化,嵌入式 GPU 把 100 點粒徑分布計算壓縮到 0.3 s,實現“測完即得"。

        三、關鍵性能指標

        項目規格
        粒徑范圍2–160 nm(單級 DMA)
        分辨率1.2 %(ΔZp/Zp)
        最小檢出直徑2 nm
        響應時間1 s(1 Hz 數據更新)
        濃度10? pt/cm3(無需稀釋)
        重復性σg < 1.5 %(50 nm NIST 標粒)
        工作流量0.3–1.5 L/min 可調
        數據接口Ethernet、Modbus-TCP、4–20 mA

        四、應用場景

        1. 半導體晶圓廠
          在線監測 EUV 光刻機臺周邊 3–10 nm 浮游顆粒,與 OPC(粒子計數器)聯動,實現污染源頭秒級報警。
        2. 納米材料合成
          氣相法合成 TiO?、SiO? 納米顆粒時,DMA-20 直接給出 2–20 nm 段“真實分布",幫助優化反應器溫度與停留,縮短研發迭代周期 40 %。
        3. 大氣環境研究
          在城市路邊站搭配 SMPS 系統,捕獲車輛冷啟動排放的 3 nm 核模顆粒,為二次氣溶膠形成機制提供高時間分辨率數據。
        4. 注射藥物納米晶
          對高壓均質法制備的 50–150 nm 藥物晶體進行在線閉環控制,粒徑超標 2 nm 即觸發均質壓力自動修正,確保批次一致性。

        五、與傳統方案對比


        方案粒徑下時間分辨率在線能力備注
        光學粒子計數器50–100 nm1 s?無法覆蓋 2–20 nm
        SMPS(商用)10 nm60–120 s?掃描型,時間滯后
        電鏡(TEM)0.1 nm離線?取樣制樣復雜
        DMA-202 nm1 s?單級 DMA,無需掃描

        六、未來展望

        K-Matsumi 已在開發“DMA-20-HP"高壓版,目標 1 nm 檢出;并與 EUV 設備商合作,將 DMA-20 嵌入光刻機內部真空管路,實現 0.1 nm 級金屬污染顆粒的“原位"監測。隨著 2 nm 節點制程量產,DMA-20 及其衍生型號有望成為納米尺度“標尺",支撐下一代超精密制造與材料科學持續突破。

        結語

        從“看得見"到“數得清",K-Matsumi DMA-20 用 2 nm 的分辨率和 1 秒的閃電速度,把納米世界的“隱形顆粒"納入實時量化管理體系。它不僅是一臺儀器,更是連接納米科研與工業控制的橋梁,為良率提升、綠色制造和前沿研究提供了“洞察力"。


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