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日本Shinkuu全自動小型涂布機MSP-40T：實驗室薄膜沉積的理想選擇
發布時間： 2025-05-26 點擊次數： 397次在材料科學、電子顯微鏡樣品制備以及納米技術研究中，精確的薄膜涂布是實現高質量實驗和產品開發的關鍵步驟。日本Shinkuu公司推出的MSP-40T全自動小型涂布機以其高效、全自動化的操作和薄膜沉積性能，成為實驗室和研發環境中理想的涂布解決方案。
一、技術參數
設備類型：多用途實驗沉積系統，配備全自動沉積功能。
尺寸與重量：小型桌面型設計，適合小空間使用。
電源：AC100V，15A。
真空系統：配備渦輪泵和隔膜泵，可實現清潔的高真空環境。
靶材：支持多種金屬靶材，包括金、銀、鉑、鎢等。
沉積方式：通過強磁場實現高效薄膜沉積。
二、功能特點
全自動操作：只需設置涂層時間并按下開始按鈕，即可自動完成沉積過程，操作簡便。
高效沉積：結合高速排氣系統，能夠快速完成薄膜沉積，提高實驗效率。
高真空環境：通過渦輪泵和隔膜泵實現清潔的高真空，確保薄膜沉積的高質量。
多種靶材選擇：支持多種金屬靶材，滿足不同實驗需求。
安全設計：配備聯鎖功能，防止操作錯誤。
三、應用場景
MSP-40T全自動小型涂布機廣泛應用于以下領域：
電子顯微鏡樣品制備：為掃描電子顯微鏡(SEM)和透射電子顯微鏡(TEM)樣品提供高質量的導電涂層。
半導體制造：用于半導體制造過程中的薄膜沉積。
納米材料研究：適用于納米薄膜、納米復合材料等研究。
材料科學：用于研究高性能薄膜材料的制備和性能。
四、總結
日本Shinkuu MSP-40T全自動小型涂布機以其高效、全自動化的操作和薄膜沉積性能，為實驗室和研發環境中的薄膜制備提供了一個理想的解決方案。它不僅能夠滿足多種材料和應用的需求，還能通過高真空環境和多種靶材選擇，確保薄膜沉積的高質量。對于需要高效、精確薄膜沉積的用戶來說，MSP-40T無疑是一個值得信賴的選擇。
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