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        IB-5離子鍍膜機在高分辨率SEM中的應用

        發布時間: 2023-08-29  點擊次數: 705次

        QQ截圖20230829200405.jpg

        摘要:
        本文介紹了IB-5離子鍍膜機在高分辨率掃描電子顯微鏡(SEM)中的應用。該設備不僅能夠實現細顆粒Pt和Pt-Pd的濺射鍍膜,同時還可以高效進行金屬、陶瓷和生物硬組織的離子蝕刻。設備具有穩定的放電距離和環形的頂部和底部電極。本文還介紹了該設備的規格和主要功能。

        關鍵詞:IB-5離子鍍膜機、高分辨率SEM、濺射鍍膜、離子蝕刻、穩定放電

        引言:
        高分辨率掃描電子顯微鏡(SEM)在材料科學和生命科學等領域中具有廣泛的應用。為了提高樣品的導電性和表面特性,離子鍍膜和離子蝕刻是常見的預處理技術。本文將重點介紹IB-5離子鍍膜機在高分辨率SEM中的應用,包括濺射鍍膜和離子蝕刻功能。

        方法:
        IB-5離子鍍膜機的工作原理和操作流程將在本節中詳細介紹。該設備具有環形的頂部和底部電極,可以實現細顆粒Pt和Pt-Pd的濺射鍍膜。同時,該設備還可以對金屬、陶瓷和生物硬組織進行高效離子蝕刻。通過穩定的放電距離和合適的參數調節,可以獲得所需的鍍膜厚度和蝕刻深度。

        結果和討論:
        使用IB-5離子鍍膜機進行濺射鍍膜和離子蝕刻后,SEM觀察到的樣品表面具有良好的導電性和較低的表面粗糙度。該設備的上電極和下電極采用環形設計,保持穩定的放電距離,確保鍍膜和蝕刻的均勻性。不同的間隔設置和電離電壓調節可實現不同厚度的鍍膜和蝕刻深度。

        結論:
        IB-5離子鍍膜機在高分辨率SEM中展現出優秀的性能。通過該設備的濺射鍍膜和離子蝕刻功能,可以提高樣品的導電性,并改善SEM觀察的圖像質量。其穩定的放電距離和環形電極設計確保了均勻的處理效果。IB-5離子鍍膜機適用于多種材料的表面處理需求,為科研和工業應用提供了一種可靠和高效的解決方案。

        附錄:
        本文附錄提供了IB-5離子鍍膜機的詳細規格,包括上電極、下電極、樣品臺冷卻方式、靶材/樣品臺間隔、電離電壓、電離電流、涂層電極、真空泵等信息,以供讀者參考。


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